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Repotenciación del horno eléctrico controlado por touch panel para tratamientos térmicos. Andrés Sebastián Guevara López, Cristian Andrés Riofrío Morales.

By: Contributor(s): Material type: TextTextEcuador :Latacunga : Universidad Técnica de Cotopaxi ; 2019Description: 95 páginas ; 30cmContent type:
  • texto
Media type:
  • no mediado
Carrier type:
  • volumen
Subject(s): DDC classification:
  • PROYECTO 621.31213 G939re
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Contents:
1. Información básica. 2. Diseño investigativo de la propuesta tecnológica. 3. Marco teórico. 4. Metodología. 5. Análisis y Discusión de Resultados.
Dissertation note: Proyecto (Ingeniería Electromecánica); Navarrete, Luis Dir Summary: garantizar la realización de los diferentes tratamientos térmicos. El estudio está enfocado en obtener la temperatura necesaria dentro de los parámetros de tiempo adecuados para realizar las técnicas de temple y revenido. El horno eléctrico fue construido con materiales como: ladrillo refractario, chapa metálica y mortero refractorio, mismos que fueron conservados durante el rediseño aplicado. Dentro de los elementos electrónicos que se utilizaron están: la resistencia de hilo Kanthal A1 de 2 mm de diámetro, la cual solventa todos los requerimientos técnicos de calentamiento y es la más usada en la industria de hornos por su fiabilidad. En el circuito de control se reemplazó el PLC 1200, la pantalla HMI y tres relés por un control de temperatura REX, que permite visualizar la temperatura que se desea alcanzar para la cámara y la temperatura a la que se encuentra la pared en el interior del horno en cada instante de tiempo. Por otro lado los calibres y tipos de conductores tienen una protección térmica, es decir, un recubrimiento de fibra de vidrio para evitar su calentamiento, esto se obtuvo mediante pruebas en base a la potencia que se obtiene por su corriente. Por último, se aplicó un análisis de transferencia de calor por radiación para calcular la energía, potencia y resistividad que se requiere, es así que ahora el horno posee una potencia de 9.6 KW y alcanza los 900 °C en 2 horas.
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Tesis Tesis Biblioteca La Matriz INGENIERIA ELECTROMECANICA / LA MATRIZ Colección / Fondo / Acervo / Resguardo PROYECTO 621.31213 G939re (Browse shelf(Opens below)) Ej.1 Available PI-001419
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Incluye CD-Room y anexos

Proyecto (Ingeniería Electromecánica); Navarrete, Luis Dir

1. Información básica. 2. Diseño investigativo de la propuesta tecnológica. 3. Marco teórico. 4. Metodología. 5. Análisis y Discusión de Resultados.

LOS PROYECTOS DE INVESTIGACIÓN DE GRADO SON DE USO EXCLUSIVO PARA LA SALA DE LECTURA.

garantizar la realización de los diferentes tratamientos térmicos. El estudio está enfocado en obtener la temperatura necesaria dentro de los parámetros de tiempo adecuados para realizar las técnicas de temple y revenido. El horno eléctrico fue construido con materiales como: ladrillo refractario, chapa metálica y mortero refractorio, mismos que fueron conservados durante el rediseño aplicado. Dentro de los elementos electrónicos que se utilizaron están: la resistencia de hilo Kanthal A1 de 2 mm de diámetro, la cual solventa todos los requerimientos técnicos de calentamiento y es la más usada en la industria de hornos por su fiabilidad. En el circuito de control se reemplazó el PLC 1200, la pantalla HMI y tres relés por un control de temperatura REX, que permite visualizar la temperatura que se desea alcanzar para la cámara y la temperatura a la que se encuentra la pared en el interior del horno en cada instante de tiempo. Por otro lado los calibres y tipos de conductores tienen una protección térmica, es decir, un recubrimiento de fibra de vidrio para evitar su calentamiento, esto se obtuvo mediante pruebas en base a la potencia que se obtiene por su corriente. Por último, se aplicó un análisis de transferencia de calor por radiación para calcular la energía, potencia y resistividad que se requiere, es así que ahora el horno posee una potencia de 9.6 KW y alcanza los 900 °C en 2 horas.

Facultad de Ciencias de la Ingeniería y Aplicadas ;

Carrera de Ingeniería Electromecánica,

VA/vm

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